彤程新材11月5日公告，年產(chǎn)1.1萬(wàn)噸半導(dǎo)體、平板顯示用光刻膠及2萬(wàn)噸相關(guān)配套試劑項(xiàng)目工程階段已竣工，目前已逐步進(jìn)入試生產(chǎn)階段。公司上海化學(xué)工業(yè)區(qū)工廠占地36200平方米，設(shè)計(jì)能力年產(chǎn)1千噸半導(dǎo)體光刻膠、1萬(wàn)噸顯示用光刻膠和2萬(wàn)噸高純EBR試劑（光刻膠去邊劑）。同時(shí)在國(guó)際國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體廠商及光刻膠廠商戰(zhàn)略合作推動(dòng)下，完成了產(chǎn)線優(yōu)化及品控升級(jí)。此前公告，公司決定通過(guò)全資子公司上海彤程電子材料有限公司在上海化學(xué)工業(yè)區(qū)投資建設(shè)該項(xiàng)目。
目前項(xiàng)目產(chǎn)品部分原料仍需要外購(gòu)，同時(shí)產(chǎn)品對(duì)原料質(zhì)量和純度水平要求較高，面臨原料價(jià)格波動(dòng)、質(zhì)量受限或者供應(yīng)商相關(guān)政策波動(dòng)等風(fēng)險(xiǎn)。
公司上海化學(xué)工業(yè)區(qū)工廠年產(chǎn)1千噸半導(dǎo)體光刻膠量產(chǎn)產(chǎn)線，主要包括年產(chǎn)300/400噸ArF及KrF光刻膠量產(chǎn)產(chǎn)線，通過(guò)采用超高純PFA（涂層）設(shè)備、引入高精度物料流量控制系統(tǒng)、配以自研的高精度高效率光刻過(guò)濾系統(tǒng)，可以實(shí)現(xiàn)ppt級(jí)金屬雜質(zhì)及0.1um級(jí)別的顆粒管控，具備不同配方先進(jìn)制程光刻膠的生產(chǎn)能力。
在ArF光刻膠產(chǎn)品方面，公司已經(jīng)完成ArF光刻膠部分型號(hào)的開(kāi)發(fā)，首批ArF光刻膠的各項(xiàng)出貨指標(biāo)能對(duì)標(biāo)國(guó)際光刻膠大廠產(chǎn)品，已具備量產(chǎn)能力，目前處于量產(chǎn)前的光刻工藝測(cè)試及產(chǎn)品驗(yàn)證階段，能否驗(yàn)證通過(guò)尚存在一定的不確定性。產(chǎn)能可同時(shí)供應(yīng)國(guó)內(nèi)大部分芯片制造商，能較好地滿(mǎn)足國(guó)內(nèi)先進(jìn)制程光刻膠的部分需求。
目前，公司G線光刻膠已經(jīng)占據(jù)國(guó)內(nèi)較大的市場(chǎng)份額；I線光刻膠已廣泛應(yīng)用于國(guó)內(nèi)6"、8"、12"集成電路產(chǎn)線，支持的工藝制程涵蓋14nm及以上工藝。KrF光刻膠量產(chǎn)品種達(dá)20種以上，穩(wěn)定供應(yīng)國(guó)內(nèi)頭部芯片制造商。